PJ-PSD 플라즈마 질화로
주요 사양
형질:
1) 질화 속도가 빠르므로 질화 사이클을 적절히 단축할 수 있으며, 이온 질화 시간을 가스 질화 시간의 1/3~2/3로 줄일 수 있습니다.
2) 질화층의 취성이 낮고, 플라즈마 질화 처리 표면에 형성되는 백색층이 매우 얇거나 아예 없습니다. 또한, 질화층으로 인한 변형이 적어 복잡한 형상의 정밀 부품에 특히 적합합니다.
3) 에너지 및 암모니아 소비량을 절감할 수 있습니다. 전기 에너지 소비량은 가스 질화 공정의 1/2~1/5 수준이며, 암모니아 소비량은 가스 질화 공정의 1/5~1/20 수준입니다.
4) 국부 질화 처리는 쉽게 구현할 수 있습니다. 질화 처리를 원하지 않는 부분에서 발광이 발생하지 않으면, 질화 처리가 되지 않는 부분을 쉽게 보호할 수 있고, 발광 부분은 기계적 차폐 및 철판으로 보호할 수 있습니다.
5) 이온 충격은 표면을 정화하고 부동태 피막을 자동으로 제거할 수 있습니다. 스테인리스강과 내열강은 부동태 피막을 미리 제거하지 않고 직접 질화 처리할 수 있습니다.
6) 복합층 구조, 침투층 두께 및 구조를 제어할 수 있습니다.
7) 처리 온도 범위가 넓어 350°C 이하에서도 일정 두께의 질화층을 얻을 수 있습니다.
8) 작업 환경이 개선되었습니다. 오염 없는 플라즈마 질화 처리는 매우 낮은 압력과 극히 적은 배기가스 배출량 하에서 수행됩니다. 가스 공급원은 질소, 수소 및 암모니아이며, 유해 물질은 거의 발생하지 않습니다.
9) 이 기술은 스테인리스강, 고온 질화강, 공구강, 저온 질화정 정밀 부품 등 모든 종류의 재료에 적용할 수 있지만, 가스 질화 방식으로는 저온 질화가 상당히 어렵습니다.
| 모델 | 최대 평균 전류 | 최대 치료 표면적 | 유효 작업 크기(mm)) | 출력 전압 | 정격 온도 | 궁극적인 압력 | 압력 상승률 |
| PJ-PSD 25 | 50A | 25000cm2 | 640×1000 | 0~1000V | 650℃ | ≤6.7Pa | ≤0.13Pa/min |
| PJ-PSD 37 | 75A | 37500cm2 | 900×1100 | 0~1000V | 650℃ | ≤6.7Pa | ≤0.13Pa/min |
| PJ-PSD 50 | 100A | 50000cm2 | 1200×1200 | 0~1000V | 650℃ | ≤6.7Pa | ≤0.13Pa/min |
| PJ-PSD 75 | 150A | 75000cm2 | 1500×1500 | 0~1000V | 650℃ | ≤6.7Pa | ≤0.13Pa/min |
| PJ-PSD100 | 200A | 100000cm2 | 1640×1600 | 0~1000V | 650℃ | ≤6.7Pa | ≤0.13Pa/min |


